Сервис отображения товаров на складе работает в тестовом режиме. Не все товары, находящиеся на складе, отображаются. Просим вас уточнять наличие продукции на складе Химмед у наших специалистов.

Информация о ценах на товары на нашем сайте носит справочно-информационный характер и не является публичной офертой.

По вашему запросу " Brewer Science " найдены следующие позиции.
Наименование Кат № Фасовка Цена, руб.
Прецизионная центрифуга Cee® 200X

Производитель : Brewer Science

Детальное описание :

Прецизионная центрифуга Cee® 200X обеспечивает высококачественное нанесение фоторезиста, тонких покрытий или других процессных химикатов, наносящихся методом центрифугирования.

Подробнее
Под заказ Добавить товар в доп корзину
Установка для проявления Cee® 200XD спреем или методом «лужи»

Производитель : Brewer Science

Детальное описание :

Установка Cee® 200XD наносит проявитель или дионизованную воду на вращающуюся пластину из распылителей.

Подробнее
Под заказ Добавить товар в доп корзину
Установка для сушки покрытий Cee® 1300X

Производитель : Brewer Science

Подробнее
Под заказ Добавить товар в доп корзину
Система Cee® 200CBX для нанесения и сушки покрытий

Производитель : Brewer Science

Подробнее
Под заказ Добавить товар в доп корзину
Система Cee® 200DBX для проявления и сушки покрытий

Производитель : Brewer Science

Подробнее
Под заказ Добавить товар в доп корзину
Система EdgeWRAP®

Производитель : Brewer Science

Детальное описание :

Установка EdgeWRAP® позволяет наносить бесшовное покрытие одновременно на верхнюю сторону, ребро и нижнюю краевую зону пластины. В отличие от использования зажимов, темного парафина, клея и ленты, являющихся традиционными методами защиты чувствительных структур пластины при утонении и травлении, система EdgeWRAP® полностью герметизирует чувствительные структуры, тем самым устраняя проблемы просачивания травителя и формирования острой кромки. Это в конечном итоге позволяет сократить убытки, возникающие из-за повреждения пластины, травления незащищенных элементов и чрезмерного искривления утоняемой пластины.Данная система была разработана компанией Brewer Science для простоты и эффективности нанесения защитного покрытия ProTEK®.

Подробнее
Под заказ Добавить товар в доп корзину
Полуавтоматическая установка Cee® 1300DB разъединения пластин.

Производитель : Brewer Science

Детальное описание :

Полуавтоматическая установка Cee® 1300DB предназначена для разъединения утоненных пластин методом «слайдинга» при высоких температурах в лабораторных условиях.

Подробнее
Под заказ Добавить товар в доп корзину
Автоматизированная система розлива химикатов

Производитель : Brewer Science

Детальное описание :

Компанией Brewer Science была спроектирована, отлажена и собрана очень адаптивная автоматизированная система розлива, предназначенная для розлива в бутылки высокочистых материалов с уровнем чистоты для микроэлектроники в чистых помещениях. Система способна разливать и закупоривать широкий спектр емкостей, таких как NOWPak®, Aicello и других высокочистых контейнеров.

Подробнее
Под заказ Добавить товар в доп корзину
Антиотражающие покрытия (АОП) ARC®

Производитель : Brewer Science

Детальное описание :

ARC® антиотражающие покрытия разработаны для фотолитографических процессов в полупроводниковых технологиях, требующих контроля критических размеров, расширения окон, а также облегчения травления в процессе литографии. Перечень продуктов включает в себя (в зависимости от длины волны):

• 193 нм материал разработан под потребности 193-нм фотолитографического процесса.

• 248 нм материал – особый продукт, позволяющий суб-0,1 ?m литографии использовать DUV процессы.

• 365 нм материал расширяет возможности оборудования i-фотолитографии с обеспечением уменьшения критических размеров.

• Gap-fill материал – высокопланаризирующие материалы, минимизирующие iso/dense уклон. Имеются составы для сухого и жидкостного травления.

• ARC® вспомогательные продукты — ARC® очиститель и EBC.

Антиотражающие покрытия (АОП) ARC® — это полимерные продукты, используемые в процессе фотолитографии при изготовлении интегральных микросхем.

Применение АОП устраняет боковую засветку пленки фоторезиста и «стоячие волны», что приводит к воспроизводимости заданных размеров и увеличивает широту режимов в процессе фотолитографии.

Подробнее
Под заказ Добавить товар в доп корзину
Услуги по оптимизации многоуровневых технологий

Производитель : Brewer Science

Детальное описание :

• OptiStack™ установка по воспроизведению литографического процесса

• Разрабатываемый BARC материал под специальные многоуровневые технологии потребителя

• Сокращение времени на эксперимент и общих затрат

Подробнее
Под заказ Добавить товар в доп корзину
Покрытие ProTEK® B3 для временной защиты при жидкостном травлении

Производитель : Brewer Science

Детальное описание :

Покрытие ProTEK® B3 защищает лицевую сторону пластины с микросхемами в процессах глубокого щелочного травления обратной стороны пластины, увеличивая пропускную способность и выход годных.

Тонкая пленка полимерного покрытия ProTEK® B3 наносится центрифугированием и обеспечивает временную защиту пластины CMOS или MEMS при жидкостном травлении щелочами или кислотами. Материал ProTEK® B3 защищает от щелочных растворов, таких как KOH и TMAH, при продолжительном травлении в ваннах. Материал ProTEK® A2 обеспечивает защиту подложки при травлении фтористоводородной кислотой 49% или растворами буферных травителей (ВОЕ).

16.png

ProTEK® B3 наносят центрифугированием и сушат при 205ОС. После травления ProTEK® B3 удаляют специальным растворителем ProTEK® Remover 100.

17-1.png

Подробнее
Под заказ Добавить товар в доп корзину
Покрытие ProTEK® PSB

Производитель : Brewer Science

Детальное описание :

Покрытие ProTEK® PSB фоточувствительно, устойчиво к щелочному травлению и используется при серийной кремниевой микрообработке на конечных стадиях, защищая слои металлизации.

Преимущества:

• Применяется поверх CMOS структур при низкой температуре процесса;

• Сокращается время обработки по сравнению с нанесением маски травления SiN;

• Обеспечивается более высокая пропускная способность при использовании ванной обработки по сравнению с DRIE (Deep Reactive Ion Etching) процессом одиночной пластины.

Покрытие ProTEK® PSB наносится центрифугированием и заменяет использование нитрида или оксида кремния при жидкостном травлении маскированной пластины. При применении в комбинации с покрытием ProTEK® B3 позволяет использовать любые варианты жидкостного травления. Покрытие может использоваться после создания CMOS схем и не требует механических зажимов для защиты структур.

17-2.png

18.png


Подробнее
Под заказ Добавить товар в доп корзину
Защитное покрытие ProTEK® SR для процессов глубокого реактивного ионного травления (DRIE)

Производитель : Brewer Science

Детальное описание :

Покрытие ProTEK® SR наносится центрифугированием и защищает лицевую сторону пластины с микросхемами в процессе глубокого реактивного ионного травления (DRIE) тыльной поверхности, что позволяет увеличить выход годных.

Преимущества:

• Прочное полимерное покрытие защищает чувствительную к воздействиям лицевую сторону пластины с микросхемами в процессе глубокого реактивного ионного травления (DRIE)

• Покрытие может использоваться как препятствие травлению при травлении сквозь пластину с использованием процессов DRIE

• Пленка высокой твердости устойчива к царапинам (9H карандаш)

• Высокая температура стеклования (117°C) не позволяет пленке ProTEK® SR прилипать к DRIE фиксатору

• Низкая дегазация в вакууме обеспечивает чистоту DRIE камеры или процесса

• Низкое содержание ионов в пленке предотвращает загрязнение пластин, инструментов и оборудования

18-2.png

Подробнее
Под заказ Добавить товар в доп корзину
Покрытия для временного соединения подложек WaferBONDТМ

Производитель : Brewer Science

Детальное описание :

WaferBONDТМ – это полимерное покрытие, используемое для временного соединения подложек при обработке с обратной стороны. WaferBONDТМ наносят центрифугированием и сушат при 220 С. После обработки подложки разъединяют в процессе нагревания или в специальном растворителе.


19-1.png

1. WaferBONDТМ наносят на рабочую поверхность подложки.

2. Подложку переворачивают и соединяют с подложкой.

3. Обратную сторону подложки обрабатывают.

4. После обработки подложки разъединяют.

Подробнее
Под заказ Добавить товар в доп корзину
Прецизионная центрифуга Cee® 200X

Производитель : Brewer Science

Детальное описание :

Прецизионная центрифуга Cee® 200X обеспечивает высококачественное нанесение фоторезиста, тонких покрытий или других процессных химикатов, наносящихся методом центрифугирования.

Подробнее
Под заказ Добавить товар в доп корзину
Установка для проявления Cee® 200XD спреем или методом «лужи»

Производитель : Brewer Science

Детальное описание :

Установка Cee® 200XD наносит проявитель или дионизованную воду на вращающуюся пластину из распылителей.

Подробнее
Под заказ Добавить товар в доп корзину
Установка для сушки покрытий Cee® 1300X

Производитель : Brewer Science

Подробнее
Под заказ Добавить товар в доп корзину
Система Cee® 200CBX для нанесения и сушки покрытий

Производитель : Brewer Science

Подробнее
Под заказ Добавить товар в доп корзину
Система Cee® 200DBX для проявления и сушки покрытий

Производитель : Brewer Science

Подробнее
Под заказ Добавить товар в доп корзину
Система EdgeWRAP®

Производитель : Brewer Science

Детальное описание :

Установка EdgeWRAP® позволяет наносить бесшовное покрытие одновременно на верхнюю сторону, ребро и нижнюю краевую зону пластины. В отличие от использования зажимов, темного парафина, клея и ленты, являющихся традиционными методами защиты чувствительных структур пластины при утонении и травлении, система EdgeWRAP® полностью герметизирует чувствительные структуры, тем самым устраняя проблемы просачивания травителя и формирования острой кромки. Это в конечном итоге позволяет сократить убытки, возникающие из-за повреждения пластины, травления незащищенных элементов и чрезмерного искривления утоняемой пластины.Данная система была разработана компанией Brewer Science для простоты и эффективности нанесения защитного покрытия ProTEK®.

Подробнее
Под заказ Добавить товар в доп корзину
Полуавтоматическая установка Cee® 1300DB разъединения пластин.

Производитель : Brewer Science

Детальное описание :

Полуавтоматическая установка Cee® 1300DB предназначена для разъединения утоненных пластин методом «слайдинга» при высоких температурах в лабораторных условиях.

Подробнее
Под заказ Добавить товар в доп корзину
Автоматизированная система розлива химикатов

Производитель : Brewer Science

Детальное описание :

Компанией Brewer Science была спроектирована, отлажена и собрана очень адаптивная автоматизированная система розлива, предназначенная для розлива в бутылки высокочистых материалов с уровнем чистоты для микроэлектроники в чистых помещениях. Система способна разливать и закупоривать широкий спектр емкостей, таких как NOWPak®, Aicello и других высокочистых контейнеров.

Подробнее
Под заказ Добавить товар в доп корзину
Антиотражающие покрытия (АОП) ARC®

Производитель : Brewer Science

Детальное описание :

ARC® антиотражающие покрытия разработаны для фотолитографических процессов в полупроводниковых технологиях, требующих контроля критических размеров, расширения окон, а также облегчения травления в процессе литографии. Перечень продуктов включает в себя (в зависимости от длины волны):

• 193 нм материал разработан под потребности 193-нм фотолитографического процесса.

• 248 нм материал – особый продукт, позволяющий суб-0,1 ?m литографии использовать DUV процессы.

• 365 нм материал расширяет возможности оборудования i-фотолитографии с обеспечением уменьшения критических размеров.

• Gap-fill материал – высокопланаризирующие материалы, минимизирующие iso/dense уклон. Имеются составы для сухого и жидкостного травления.

• ARC® вспомогательные продукты — ARC® очиститель и EBC.

Антиотражающие покрытия (АОП) ARC® — это полимерные продукты, используемые в процессе фотолитографии при изготовлении интегральных микросхем.

Применение АОП устраняет боковую засветку пленки фоторезиста и «стоячие волны», что приводит к воспроизводимости заданных размеров и увеличивает широту режимов в процессе фотолитографии.

Подробнее
Под заказ Добавить товар в доп корзину
Услуги по оптимизации многоуровневых технологий

Производитель : Brewer Science

Детальное описание :

• OptiStack™ установка по воспроизведению литографического процесса

• Разрабатываемый BARC материал под специальные многоуровневые технологии потребителя

• Сокращение времени на эксперимент и общих затрат

Подробнее
Под заказ Добавить товар в доп корзину
Покрытие ProTEK® B3 для временной защиты при жидкостном травлении

Производитель : Brewer Science

Детальное описание :

Покрытие ProTEK® B3 защищает лицевую сторону пластины с микросхемами в процессах глубокого щелочного травления обратной стороны пластины, увеличивая пропускную способность и выход годных.

Тонкая пленка полимерного покрытия ProTEK® B3 наносится центрифугированием и обеспечивает временную защиту пластины CMOS или MEMS при жидкостном травлении щелочами или кислотами. Материал ProTEK® B3 защищает от щелочных растворов, таких как KOH и TMAH, при продолжительном травлении в ваннах. Материал ProTEK® A2 обеспечивает защиту подложки при травлении фтористоводородной кислотой 49% или растворами буферных травителей (ВОЕ).

16.png

ProTEK® B3 наносят центрифугированием и сушат при 205ОС. После травления ProTEK® B3 удаляют специальным растворителем ProTEK® Remover 100.

17-1.png

Подробнее
Под заказ Добавить товар в доп корзину
. TopList .